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在使用超聲波細胞破碎儀之后應該如何清洗

更新時間:2022-12-16  |  點擊率:1771
  超聲波細胞破碎儀就是將電能通過換能器轉(zhuǎn)換為聲能,這種能量通過液體介質(zhì)而變成一個個密集的小氣泡,這些小氣泡迅速炸裂,產(chǎn)生的能量,從而起到破碎細胞等物質(zhì)的作用。
  超聲波細胞破碎儀具有破碎組織、細菌、病毒、孢子及其它細胞結(jié)構,勻質(zhì)、乳化、混合、脫氣、崩解和分散、浸出和提取,加速反應等功能,故廣泛應用于生物、醫(yī)學、化學、制藥、食品、化妝品、環(huán)保等實驗室研究及企業(yè)生產(chǎn)。
  超聲波破碎儀的主要清洗方式有以下幾種:
  1、半水基清洗。近年來逐漸發(fā)展成熟的一種新工藝,它是在傳統(tǒng)溶劑清洗的基礎上進行改進而得來的。它能有效地避免溶劑的一些弱點,可以做到無毒,氣味輕微,廢液可排入污水處理系統(tǒng);設備上的配套裝置更少;使用周期比溶劑要更長;在運行成本上比溶劑更低。半水基清洗劑突出的一個優(yōu)點就是對于研磨粉等無機污染物具有良好的清洗效果,極大地緩解了后續(xù)單元水基清洗劑的清洗壓力,延長了水基清洗劑的使用壽命,減少了水基清洗劑的用量,降低了運行成本。
  2、溶劑清洗。比較傳統(tǒng)的方法,其優(yōu)點是清洗速度快,效率比較高,溶劑本身可以不斷蒸餾再生,循環(huán)使用;但缺點也比較明顯,由于光學玻璃的生產(chǎn)環(huán)境要求恒溫恒濕,均為封閉車間,溶劑的氣味對于工作環(huán)境多少都會有些影響,尤其是使用不封閉的半自動清洗設備時。
  3、鍍膜前清洗。鍍膜前清洗的主要污染物是求芯油、手印、灰塵等。由于鍍膜工序?qū)︾R片潔凈度的要求極為嚴格,因此清洗劑的選擇是很重要的。在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時,還要考慮到他的腐蝕性等方面的問題。
  4、鍍膜后清洗。一般包括涂墨前清洗、接合前清洗和組裝前清洗,其中接合前清洗要求嚴格。接合前要清洗的污染物主要是灰塵、手印等的混合物,清洗難度不大,但對于鏡片表面潔凈度有非常高的要求,其清洗方式與前面兩個清洗工藝相同。
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